實驗初期，為了對比電弧噴涂鋁層在重熔前后的等離子體電解氧化情況，對未經過重熔的電弧噴涂鋁層進行了等離子體電解氧化。我們知道，電弧噴涂的工藝是影響鋁涂層質量的重要因素，因此我們分別選用了不同噴涂工藝所制備的涂層，結果發現不同的噴涂厚度與噴槍類型對能否進行等離子體電解氧化有明顯的影響，實驗結果見表4-2。
對于普通噴槍的電弧噴涂鋁層，我們發現，當涂層的厚度小于0.2 mm的時候，一般不能進行等離子體電解氧化。這與電弧噴涂的工藝特點有一定的聯系，涂層的形成決定了涂層的結構，由于電弧噴涂層是由無數變形粒子互相交錯呈波浪形堆疊在一起的層狀組織結構，顆粒之間不可避免存在一部分孔隙或空洞，并有氧化物和夾雜。當涂層較薄時，就有可能出現直達鋼基體的通孔存在，使處理液與鋼基體直接導通，鋼基體直接稱為陽極，致使微弧氧化不能進行；而當涂層較厚時，層層堆垛的顆粒就會覆蓋這些通孔。
普通電弧噴涂層厚度小于0.2 mm時，通常有通孔的存在，這與實驗結果是一致的。但是，不宜單純為了等離子體電解氧化的進行而增加噴涂層的厚度，因為較厚的涂層與基體的結合強度下降，內部應力增大，這在工程應用上是不利的；而且就復合膜層的整體結構功能來說，陶瓷層和鋼基體之間過厚鋁層的存在也有礙于復合膜層整體表面強化作用的體現，所以單純靠增加噴涂層的厚度來實現等離子體電解氧化的手段是不可取的。
我們又利用全軍裝備維修表面工程研究中心研制的高速電弧噴槍制得的涂層進行了實驗。實驗結果表明，即使是在涂層較薄的情況下(小于0.2 mm)，也能使等離子體電解氧化正常進行。這是因為新式噴槍使金屬粒子霧化更充分，霧化后的粒子細小均勻，速度高，涂層組織更加致密，降低了孔隙率，從而減小了直達基體的通孔存在的幾率。由上面的嘗試性實驗我們可以看出，無通孔存在的電弧噴涂鋁層是進行等離子體電解氧化的首要條件。但是單純靠提高涂層厚度來保證等離子體電解氧化的進行。
對工程應用來說是不現實的；另外一方面，雖然高速電弧噴涂鋁涂層能在較薄的情況下進行等離子體電解氧化，但是復合膜層和基體之間終究屬于機械結合，不能承受較大的載荷。綜合分析以上因素，我們對涂層進行了重熔處理，這樣即使是較薄的普通電弧噴涂鋁層，也能在重熔后除去通孔，降低了孔隙率，并提高了結合強度，保證了等離子體電解氧化的進行。
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